ヒーティングシステムの紹介
排気配管内の副生成物堆積を防ぎ、装置稼働の安定化と安全性を実現します。
半導体製造装置の排気ラインでは、プロセス中に発生する副生成物（パウダー）の堆積が
配管閉塞・メンテナンス負荷増大・安全リスクを引き起こす大きな課題となっています。
配管閉塞・メンテナンス負荷増大・安全リスクを引き起こす大きな課題となっています。
当社は、熱技術を応用した加熱・希釈システムにより、排気配管内に堆積する副生成物の蓄積を効果的に抑制。
配管内部の清浄度維持をはじめ、装置の安定稼働を強力にサポートします。
配管内部の清浄度維持をはじめ、装置の安定稼働を強力にサポートします。
半導体製造装置業の排気配管内に堆積する副生成物(パウダー)を、熱技術を応用した希釈・加熱によりこれら副生成物の堆積を防ぎ、抑制します。
堆積抑制技術の特長
■ 副生成物（Depo）の堆積防止・抑制
配管を適切に加熱・希釈することで、パウダーの付着や固着を防止します。
■ 装置配管の清浄度維持
ライン停止の原因となる配管閉塞リスクを大幅に低減し、安定稼働に貢献します。
■ メンテナンスコストの削減
清掃頻度の削減・作業負荷の軽減により、運用コストを最適化。
■ 安全性の向上（爆発リスク低減）
副生成物の過剰堆積による爆発・発火リスクを抑え、安心できる運用環境を確保します。
■ 生産性の向上
熱エネルギーの活性化により、装置の安定稼働時間が向上し、生産効率の改善に寄与します。
各ライン仕様に合わせた最適なシステムをご提案
当社では、プロセス条件・排気ライン構造・装置仕様に合わせ、
Depo堆積抑制・除去のための機器およびシステムを最適構成でご提供しています。
Depo堆積抑制・除去のための機器およびシステムを最適構成でご提供しています。
- 配管加熱システム
- 希釈ガス導入システム
- カスタム加熱ジャケット
- ライン別システム構成提案
- 現場設置・立ち合いサポート
設備設計から導入・運用支援まで、トータルでお任せください。
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TEL.
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