HOT-N2 SYSTEMについて
HOT-N2 System
HOT-N2 SYSTEM は、半導体製造においてパウダーやガス副生成物が発生する工程に使用し、Exhaust Line (排気管) の詰まりを改善します。
【特徴】
【特徴】
- パウダー・副生成物の生成および堆積防止:
配管内酸化物生成を抑制します。 - メンテナンス減による設備の生産性向上：
メンテナンス費用減少が期待されます。 - 大容量N2 Purge が可能：
爆発危険性を防止します。
使用例および機能
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| 区分 | 仕様 |
| 電源入力 | 単相 180~240V / 50~60Hz |
| 電力消費 | Max 500W (Normal 230W) |
| 電流 | Max 3.8A |
| フランジ | In-let : NW40 / Out-let : NW50 (フランジは変更可能) |
| 温度 流量 | Max 温度 200℃ N2 flow : 100 slm (max 200 slm) |
| Jet Block サイズ | 130mm (H) |
| Heater Block サイズ | 139 x 73 x 57 |
| N2 In-let | 3/8 inch lok type |
| Check Valve | 1/4 inch lok type |
| 材質 | SUS316 |
| リークレート | < 1x10-8 torr l/s |
使用例および機能
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ドライポンプのOUT側およびScrubber (除外装置) のIn-let 側に取り付けます。
【機能】
- Dilution (希釈)：
ガスをDilution (希釈) します。 - Transfer (移送)：
HOT N2 を配管内部に噴射し、副生成物を高速で流し込むことで副生成物がTransfer (移送) され配管内部の蓄積を防止します。 - 熱エネルギー活性化：HOT N2を噴射により副生成物を加熱させます。
HOT N2 SYSTEM 主な適用工程
HOT N2 SYSTEM 使用例
- エッチング
- CVD
- PVD
- Diffusion 等
※一部の低温工程では HOT N2 SYSTEM を使用する必要はございません
HOT N2使用による効果
HOT N2 未使用
HOT N2 使用
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TEL.
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